一步落後，步步落後！
如果等曙光科技半年後再去研發半導體生產設備，然後用個一年或兩年去繞過西方半導體生產設備的技術專利壁壘，完成90納米製程工藝生產設備的研發。
那到時曙光科技90納米製程工藝生產設備研發完成之日，肯定是彆人65納米製程工藝的落地量產之日。
好不容易研發完成90納米製程工藝，結果這一下子又落後於西方了，這可是會讓人吐血的。
在這種情況下，晚半年再去研發半導體生產設備雖然可以，但實際上負麵影響相當之大！
所以曙光科技必須要早日解決90納米製程工藝的問題，在當前無法采購到相應半導體生產設備的現在，自主研發也是惟一的道路了。
“唉。”
麵對林晨的話語，雷布斯也是深深歎了一口氣。
雷布斯自然知道林晨的顧慮是什麼，但半導體生產設備的研發真的太燒錢了呀。
至少也是一年十幾億美元才能起步，一年燒他個兩三百億美元都很正常的恐怖程度啊！
之所以需要如此多錢，這是因為半導體生產設備主要分為晶圓生產設備與芯片生產設備與檢測設備三大部分。
其中核心設備包含單晶爐、氣相外延爐、氧化爐、分子束外延係統、低壓化學氣相澱積係統、化學機械拋光機、晶圓切割機……
根據半導體相關人士的統計，一個芯片的生產需要經過上千個工序，而芯片生產的核心設備足足有17個！
麵對這17個半導體芯片生產的核心設備，沒有哪一個國度能全部包攬。
當前半導體的生產設備是各個發達國度負責一部分，最終彙總在一起組成一條世界最先進的90納米製程工藝芯片生產線。
所以想要解決半導體生產設備問題然後能生產90納米芯片，這並不是單單解決一個光刻機就行的了。
而且最可悲的是這17個半導體生產設備幾乎是相輔相成的，比如你解決了光刻機的問題。
但如果其他核心設備不達標，性能參數跟不上生產90納米芯片需求的話，那你也生產不了90納米芯片或者更先進的65納米芯片。
所以想要單單研發出光刻機就號稱解決90納米製程工藝這肯定是在開玩笑。
當然在17個核心半導體生產設備中，光刻機確實是最關鍵的一個東西，也是研發難度最大的一個東西。
可以說隻要解決光刻機的問題，那幾乎已經相當於半隻腳踏入了90納米製程工藝也是事實。
“雷布斯，我們確實是沒錢，但目前不需要那麼多設備一起去解決啊，目前可以先研發更為重要的刻蝕機與光刻機。”
說到這裡的林晨略微頓了一下，似乎陷入了沉思，但很快林晨又接著說道：
“其中刻蝕機我們可以聯合忠芯國際那邊一起研發，不必自己全部承擔著。
雖然我們和忠芯國際是競爭對手，但也可以一起合作研發刻蝕機，然後一起共享該設備啊，到時刻蝕機的銷售利潤按股份分潤就行。
其中刻蝕機人才方麵我倒是有所推薦，聽說曾經在美迪國應用材料與泛林半導體任職。
曾多次主持刻蝕機的研發，手握200多項刻蝕機專利的尹誌曉在忠芯國際江海舟的勸誡下回國了。