那就是mota400光刻機。
mota400光刻機是墨塔微電的最新之作，大量采購了國外的一些零部件，在一些核心部件上麵，mota400也是有國產的部件。
相比起mota800光刻機相比，mota400光刻機在一開始的時候，零部件的國產化率就要高出很多。
像是mota800光刻機在剛出的時候，國產化率隻有百分之二十幾，而到了現在，mota400光刻機的國產化率直接是百分之四十起步的。
提升了十幾個百分點。
這無疑來講，是一個相當巨大的進步。
mota400光刻機屬於第二代光刻機，是mota800的升級版產品。
可以實現最小400nm的工藝節點，當然，通過特殊的工藝製程的話，可以生產更低節點工藝的芯片。
隻不過在成本上麵，可能會是稍稍貴了那麼些。
光刻機最為重要的，就是光源。
現在采用的光源都屬於深紫外光。
第一代光刻機采用的波長436nm的gline光源，現在的光刻機采用波長365nm的iline光源。
下一代光源也已經確定了，是波長248nm的kr光源。
第四代的時候，采用波長193nm的ar光源。
但是，已經有一個新的概念被提了出來，那就是極紫外光刻機。
這可能很多人都不熟悉，換上一個說法：euv光刻機。每一次光源的改進，都是能夠顯著提升光刻機所能實現的最小工藝節點。
隻不過極紫外光刻機這個新概念被提了出來，但是卻沒有企業往這個上麵投錢。
很簡單的原因，極紫外光想要作為光源用到光刻上麵，技術難度實在有著些過於的高了些。
反正，這屬於一個概念性的東西。
市場上麵的光刻機，還依舊的能夠滿足需求，大家對於這極紫外光刻機並不急著要。
實際上，asml在1999年的時候才開始進行euv光刻機的研發工作。
計劃是通過五年時間，在2004年的時候，就推出euv光刻機產品。
但是到了2010年才是搞出第一台euv光刻機原型機，2016年才是向下遊客戶正式供貨。
憑借著euv光刻機，asml也是一舉成為全球光刻機領域當之無愧的最大巨頭。
光源對於光刻機的重要性，實在過於的重要了一些。
陳懷慶也是看過一些報道，說華國在極紫外光源上麵是有著突破的。
也不知道具體情況到底如何。
網絡上麵的新聞，這很多都隻是看上一個樂就行。
除了光源之外，工作台和新的光刻技術創新，也是能夠提升最小工藝節點和生產效率以及產品良品率。
此時大家對極紫外光刻機沒有什麼信心，可是陳懷慶卻知道，這東西真的能行啊！
所以陳懷慶已經要求墨塔微電研發euv光刻機，並且在投入上麵，還不小。
首先就是在光源技術上麵，得要先研究出來大功率的極紫外光源才行。
陳懷慶覺得，肯定沒有什麼問題的。
他可是記得，米國一直在推激光武器的概念。
然後華國的激光武器都已經可以實戰化了，然後米國一下子就啞火了。
自己提出來的概念，怎麼華國給先搞了出來？
極紫外光刻機是米國那邊提出來的，為了打壓霓虹的半導體行業，對於極紫外光刻機的研究，根本就不要霓虹參與進來。
事實上，靠著美歐的能力，整個研究顯得很吃力。