會議室內，所有人都覺得憋屈。
趙燁反倒是看的最開……
中國發展半導體產業，必須自力更生，沒有退路可言！
不要指望彆人會大發善心。
所以，任何抱有僥幸心理的想法都是錯誤的。
趙燁重生歸來，就堅定了國內半導體產業要走自主研發的道路。雖然艱難，但不是沒可能。
中國是全球唯一擁有全產業鏈的國家！
雖然各方麵都落後，但是潛力巨大。
而且，中國市場龐大，未來也足以養活整個半導體產業鏈上麵的公司。
荷蘭阿斯麥EVU雖說有10萬多個零件，五千個零件供應商，但其實大部分零件，中國也可以開發出來。少部分技術比較難的零件，難道中國多花點時間依舊攻克不了？
事在人為！
而且，現在是80年代，光刻機的發展才起步。中國光刻機發展起來，反而會壓製其他半導體公司的發展。
就趙燁所知，光刻機到了90年代之後，幾乎一二十年內都沒有多少進步，業界普遍認為193nm光刻無法延伸到65nm技術節點，而157nm將成為主流技術。
直到2002，台積電的林本堅提出了193nm浸沒式光刻的概念，此前，光刻機都是乾式光刻機。
到了2007年，ASML阿斯麥與台積電合作開發，成功推出第一台浸沒式光刻機，使得193nm光波在水中的等效波長縮短為134nm，足可超越 157nm的極限。
阿斯麥也就在這個時候，憑借浸沒式光刻機的技術優勢徹底擊敗佳能、尼康，成為光刻機霸主。
倘若無疆微電子公司率先把林本堅收入麾下，提前開發浸沒式光刻機，那麼，中國光刻機實現彎道超車，指日可待！
趙燁此時麵對RB，乃至全球的光刻膠廠商的封鎖，心中的鬥誌越發昂揚。
而在場所有人心中都憋著一股氣，這股氣將會轉化為動力，不把光刻膠開發出來誓不罷休！
此刻，趙燁環視一圈，緩緩開口道：“RB人害怕我們超越他們，所以才會對我們斷供光刻膠！我很早之前就說過，不要把希望寄托於彆人，必須堅持走自主研發路線。今天，他們斷供光刻膠，明天就有可能斷供單晶矽、芯片、內存、操作係統等等。難道我們要一直讓彆人卡脖子嗎？渴望彆人的憐憫和施舍嗎？”
“自力更生，豐衣足食！國外有的，我們也要有，而且還要努力超越他們！”
“RB斷供光刻膠這個事情，我覺得反而是一件好事，這提醒大家不要再抱有僥幸心理，否則，未來類似這種事情還會層出不窮！”
說著，趙燁目光看向無疆光刻膠公司的十多名科研工程師，“現在，我們必須加快開發光刻膠的腳步，時不我待，無疆微電子公司正在遭遇巨大的危機，受牽連的還有無疆集團！李意鳴院士，你們有信心在半年內開發出g線光刻膠嗎？”
一名四十多歲，穿著中山裝，戴眼鏡的中年男子，鄭重地點了點頭，沉聲道：“我一定會帶領團隊加班加點，爭取半年內把g線光刻膠搞出來！！！小小RB，欺我中國無人耶？！我們中國的科研人員並不比RB人差，之前隻不過是缺少資金和研發設備，所以才導致我們國家的光刻膠研發進度比較緩慢。”
趙燁笑著點點頭，對李意鳴院士說道：“嗯，我相信你們可以做到的！”