“多重曝光技術？”
站在高永明右側的工程師露出抹不解，他叫唐鑫宇，是龍芯國際光刻團隊的副首席。
他好像聽說過，但記不起來在哪聽過了。
“沒錯。”
林天點了點頭，語氣堅定道：“DUV光刻機是可以製造14納米芯片的，它的極限遠不止於此，理想狀態是能到7納米。”
高永明：“！！！”
唐鑫宇：“！！！”
曲程：“！！！”
DUV光刻機極限居然是7納米？
你在開什麼玩笑？
陳星也被驚到了，如果真能使用一台20納米製程的DUV光刻機造出7納米芯片，那西方會不會對此大跌眼鏡？
彆看明麵上，米國還沒下場封鎖技術，但背地裡，其實早就限購光刻機了。
它的做法很簡單，可以賣你龍國光刻機，但不能賣給你最先進的光刻機。
例如兩年前，28納米還屬於先進水平的時候，28納米製程的DUV光刻機就不能賣給龍國，誰敢賣，就是和米國作對。
荷蘭敢嗎？
顯然是不敢的，它們也沒有這個本事。
荷蘭ASML公司說白了，它就是個光刻機組裝工廠，沒有米國的光源技術，它啥也不是。
而到了今天，西方攻克了14納米芯片後，已經把目光看向了7納米芯片，自然而然的，20納米DUV光刻機就被放開了。
米國目的很明顯，允許你用，但不允許你超越。
越是害怕，越會提防，因為龍國才脫離戰爭不到三十年，就發展到了世界第二大經濟體，再給發展三十年會怎麼樣？
沉睡的雄獅，東方的巨龍，它們哪敢不防？
陳星雖然是商人，但同時也是位龍國商人，如果能在自家搞出14納米芯片，那他還是願意多支付一些流片費用的。
畢竟曲程也說了，之前龍興科技公司申請的國家芯片扶持也走完審核流程，資金和土地都進入了最終的批準環節。
“說說使用這個多重曝光技術，流片要多少錢？”
陳星表明自己態度。
林天得到確切的答複後，述說自己的想法道：
“光刻多重曝光技術，說通俗直白一點就是，原本隻需一塊的芯片掩膜版就可以搞定的生產，現在我們因為光刻機精度和分辨率的限製，將它拆分多塊，每一塊都有相對應的電路圖案。”
“比如我們要做14納米芯片，可以把設計的芯片電路圖案拆開，就得到了兩份28納米間隔的電路圖案，分兩次把它們刻在矽片上，就會形成完整的14納米芯片電路圖案，就類似於我們龍國的太極圖，一陰一陽互補的意思。”
“因為是兩塊芯片掩膜版，所以要給雙倍的流片費用。”
陳星大致聽明白了，這個多重曝光技術就相於要印刷一個AB字母的組合圖案。
第一步先把AB拆開，得到A與B兩個圖案，然後將它們分彆製作光掩膜版，緊接著用第一塊A字母的掩膜版在矽片上刻了A，再用B字母的掩膜版在矽片上刻上B，最終得到所需要的AB組合圖案。
八個字概括就是，精度不夠，工序來湊。
“要花兩倍的流片費用，高總，14納米的……”