再差經濟計劃，也比完全不投入要好。
908工程，是中國集成電路行業的第八個五年計劃。1990年始，國家集中投資20多億元，目標是在無錫華晶建成一條月產1.2萬片、6英寸、0.8－1.2微米的芯片生產線。但由於審批時間過長，工程從開始立項到真正投產曆時7年之久，而芯片行業不到兩年換一代產品。及至1997年建成投產時，華晶的技術水平已大大落後於國際主流技術達四至五代，月產僅800片左右，投產當年即虧損2.4億元。
其實，908工程本身是沒問題的，但執行起來，涉及到大量的官僚和領導部門，導致項目的推進效率低的令人發指。
換做是鋼鐵、水泥、汽車之類傳統行業，7年時間才投產，這並沒有多大的問題。問題是，半導體產業，講究的是效率。7年時間投產，基本上，是拿錢打水漂，砸一聲響，但卻基本上不能創造效益。
908工程拖延導致失敗，其實並不是最慘的。
更慘的是909工程，國內的半導體行業的領導，更換路線，覺得靠著國內自主研發，是很難跟的上國際半導體行業的進度的。所以，開始引進日本nec，合資投入100億人民幣，是908工程的5倍。但是，技術和管理方麵，完全委托為日本nec公司，試圖依靠日本的“先進經驗”來幫助中國半導體產業發展。
但是，後來909工程，更是徹底是失敗項目，日本方麵基本上不讓中國掌握工藝製程的原理和ic產品的設計。隻是拿日本淘汰的生產線，搬到中國，掏空中國用於發展半導體行業的資金，但卻隻換來一條落後和虧損的生產線，且，生產線脫離研發和設計，對中國半導體行業的鍛煉和促進作用，遠低於908工程。
908工程，至少集中了大量中國的科研單位，攻關了一係列項目。雖然，項目本身虧損了20億元，但卻是自主攻關研發了一些技術，這些技術的價值和鍛煉出來的團隊的價值，其實是遠遠被低估了。
909工程的負麵影響，是巨虧掏空了中國用於發展集成電路的資本，被日本人坑的很慘，基本掏空了中國集成電路產業的本錢。之後，國家投入集成電路產業的資金，開始銳減。步入21世紀，國內芯片產業卻是進入了真正意義上的寒冬。即便是看到國內和國際市場的工藝製程差距在擴大，但是，民間資本因為看不到利潤，所以很少投資。國家資本，則是縮小產業投入規模，僅再科研單位和高校，象征性的撥點錢，消極跟進國際上半導體工藝和設計。
當然了，現在908工程還未拖到97年投產，由於，目前國內半導體產業比曆史上更發達，無論是人才團隊，還是設備工藝，大部分都可以在國內采購，所以，94年已經投產。工藝水平初期是1.2微米，但是隨著生產線對於技術的掌握和吃透，做到0.8微米是沒問題的，甚至，半導體工藝也不是絕對的，如果團隊能挖掘潛力，讓工藝水平突破設備的極限，做到0.5微米，也不是不可能。
比如，後世的英特爾遲遲卡在10納米工藝製程，長期在使用14納米製程。相對而言，台積電和三星，已經開始進入7納米階段。並不說說，台積電和三星的設備比英特爾更先進。其實，三家公司的設備上，是同一代產品。
隻不過，三星和台積電，對於設備吃的更透，率先挖掘出了設備的潛力。而英特爾則是因為，關鍵的地方出了問題，一直卡在14納米，未能讓設備發揮出更大的潛力。
而90年代的1微米工藝製程的設備，如果初期投產達不到相對精度，可以降低標準，當做1.2微米的工藝，降低精度來增加良品率。隨著時間發展，不僅僅良品率會越來越高，而且，如果生產線的技術人員進行一些改進和挖掘潛力，少則不需要更換光刻機，小範圍改進就可以將工藝升級到0.8微米。如果，整個團隊都是比較牛逼，不換光刻機，用精度更落後的光刻機挖掘潛力，將工藝提升到0.5微米，也不是不可以做到。
簡單說，光刻機等等設備僅僅是設備，能把生產設備的潛力挖掘到什麼地步，則是要看芯片工廠的管理和技術團隊的水平。
這跟繡花一樣，同樣的繡花針，有的人就能在布上繡出華麗精致的畫卷。不會用的門外漢，就隻能用繡花針紮人。
“現在908工程怎麼回事？”林棋問道。
“投產了，但是找不到訂單！”小雷表示說道，“華晶的領導到香港來化緣，求點訂單！”
“好吧，我去見一見！”林棋並沒有因為華晶工廠是908工程，就給額外的青睞。首先，現在的908工程，彆說跟國際比了，就是國內比，也是落後了兩代以上。
新創芯和驪山半導體，目前主流的工藝水平，已經是0.5微米。再經過幾年挖掘潛力，不需要更換光刻機，部分的生產線，應該是可以達到0.35微米甚至0.25微米的程度。
跟兩大龍頭企業相比，華晶的地位很尷尬，也很雞肋。
當然了，華晶再差，好歹是中國的半導體公司，如果是能幫到的，林棋還是願意幫扶的。