1月15日，星期六。
合痩市。
乘坐高鐵的衛明，來到了這座城市。
為此他特意跟樊姐請了兩天假，提前處理了三十多名結石病人，合計騰出了三天時間，就為了解決掉一個問題。
人才！
高端光刻機的研發人才。
而且衛明已經有了明確的招募目標，他認為的最合適最優秀的人才，就在合瘦市這邊。
此人名叫蒲偉才。
衛明是在網上查找相關信息的過程中，看到了多條關於此人的新聞。
也注意到此人帶領的研發團隊，取得的跟光刻機相關的多項研究成果，明白了此人的牛叉之處。
因為這些天衛明也在大力學習一些跟光刻機相關的知識，了解到了EUV光刻機的幾大核心技術。
一個，組裝。
光刻機最重要的技術之一是組裝，就是把所有的元件組裝起來，然後使分辨率達到最高，同時套刻精度達到最佳。
比如機器內部溫度的變化要控製在千分之五度，得有合適的冷卻方法，精準的測溫傳感器。一台光刻機中，包含十幾個分係統，幾萬個機械件，數百個的傳感器，每一個都要穩定。
二，控製。
光刻機是製造業內對精密性要求最高的產品。光刻的原理就像在米粒大小的麵積上，雕刻納米級大小的文字，對於誤差的要求可想而知。
比如光刻機裡有2個同步運動的工件台，一個載底片，一個載膠片。兩者需始終同步，誤差在2納米以下。兩個工作台由靜到動，加速度跟導彈發射差不多。
三，光源。
製造EUV需要極高的能量。EUV能被空氣吸收，所以光刻環節必須耗電保持真空環境。更誇張的是，EUV還能被透鏡吸收，所以隻能用十幾次麵透鏡，通過不斷反射將光源集中。
每反射1次，EUV的能量就會損失3成。十幾次反射後，到達晶圓的光線理論上隻剩下2%。從能連趕上看，寒國某半導體企業曾經說過，極紫外光EUV的能源轉換效率隻有0.02%左右。
四、鏡頭。
光刻機的中心鏡頭對於鏡頭要求較高，位於光刻機中心的鏡頭，由20多塊鍋底大的鏡片串聯組成，需要高純度透光以及高拋光。
目前，符合光刻機要求的鏡片還無法靠機器製造，先進光刻機鏡頭全部由手工打磨而成，能夠達到這一標準的公司並不多，全世界範圍內也就一兩家，全部是西方老牌公司。
而這四大類的核心技術中。
衛明了解到這位牛人蒲偉才跟他的技術團隊，在短短的十年時間裡，一共攻克了兩項。
分彆是雙工台技術與光源技術。
他帶領團隊研發出的高精密雙工台，控製精度也達到了2納米，跟國外最先進水平，達到了同等先進的程度，抹平了技術差距，可以說是打成了平手。
而在光源技術方麵，蒲偉才也是隻用了短短幾年時間，利用國內在激光技術領域的領先地位，以及材料方麵的領先優勢，開發出的EUV光源係統，最終能源利用率達到了5%。
較之於艾思邁EUV光刻機的2%，能源利用率提升了一倍還多！
這意味著光刻機在使用的過程中，能節省一半多的電，減少產生大量的熱量，係統的穩定性能提高不少。