“一微米光刻機已經研發成功，並定型量產，在座的諸位功不可沒。但這一切都已經是過去式，接下來，咱們要在一微米光刻機的基礎上，再接再厲，研發0.5微米製程的光刻機。我代表維創電子公司表個態，不管研發過程中遭遇怎樣的困難，需要投入幾億，十幾億，甚至幾十億的研發資金，我們維創電子也在所不惜。接下來，有請薑教授就下一代光刻機研發計劃，做一下總體規劃。”
薑安平拿出一份手寫的稿子，清了清嗓子說道：
“當初劉老板提供的光刻機研發資料中，有一份0.5微米光刻機研發概要，點明了幾個研發要點，包括光源，透鏡係統，雙工台，掩模台等等。
其中雙工台、掩膜台、控製係統、晶圓傳輸係統，可以通過一微米光刻機的相關部件進行升級改造達成，難度不是太大。
但為了達到0.5微米的加工精度，光源係統和透鏡係統需要重新設計，重新打造，這個難度不是一般的大。”
烏光輝跟著發言道：
“我是搞激光技術出身，在光刻機光源方麵有一定研究。光刻分辨率想要達到0.5微米，光源波長需要達到365nm以下，且對光源強度和均勻度都有非常嚴格的要求。咱們在一微米光刻機上使用的高壓汞燈，理論上其極限能達0.35微米的加工精度，但需要對其結構進行徹底的改造，且越是接近極限，越難以達成。
而被業界普遍認定是下一代光刻機光源的KrF（氟化氪）準分子激光，光源波長為248nm，可以使最小工藝節點提升至350-180nm水平。當今世界上，很多激光相關的研究所，都在對準分子激光進行研發，進度參差不齊，達到實用水平的，一個都沒有。
我的建議是，在光刻機光源方麵，兩種線路同時研發，哪個率先取得突破，下一代0.5微米光刻機上，就使用哪一種光源。”
一位光學方麵的專家發言道：
“光源波長越短，傳播過程中越容易被透鏡吸收。下一代0.5微米光刻機，如果依舊使用高壓汞燈當光源，使用現在的透鏡組合就足夠了，頂多加工精度再提高一些。如果使用準分子激光做光源，透鏡係統就需要推倒重做，組合裡至少增加兩枚玻璃透鏡，參數也要重新設計，還有鍍膜材質也要重新開發。這方麵研究需要儘快提上日程，如果開發新透鏡組合，需要的計算量非常的大，使用普通計算機計算，需要的時間會非常長，我建議咱們使用ARM1芯片，組裝一台超級計算機出來。”
一位深鎮大學教計算機的教授，推了推眼鏡出聲道：
“超級計算機確實是個好東西，咱們很多研發中的項目涉及到大量數據計算和模擬測試，如果咱們實驗室有一台超級計算機，可以把研發速度提高很多。
維創電子公司晶圓工廠出產的ARM1芯片，是世界上第一款精簡指令集芯片，以10萬晶體管數量，提供了遠超80286芯片的性能，在功耗上，也隻有後者的三分之一左右，是製作超級計算機的最優芯片。