EUV光刻機的核心技術，主要由三大係統構成。
首先是EUV光源係統，這個係統負責製造光刻過程中，需要用到的特殊光線。
從第一代的UV光刻機，到第五代的EUV光刻機，光線的波長也從436nm，縮短到了13.5nm，目前所有的光刻機，就是通過光線的不同，來區分技術等級的。
這其中主要涉及到的原理，就是光學中光線波長和清晰度的關係。
最簡單的道理，就是進入黃色的鎢絲燈房間，大部分人都會感覺視線昏暗，
哪怕多加幾個燈泡，也始終感覺沒有白色的LED燈那麼明亮和清晰。
這就是因為黃色光的波長，要遠高於白色光，
光線的波長，就像是海浪一樣，越大的波浪，拍打在海防堤上的水位高低起伏就越大。
而這個水位的高低落差，換成在光學領域，就成了影響陰影邊緣清晰度的重要因素。
因此，想要達到越小製程的芯片工藝，就需要波長越短，越無限接近絕對直線的光。
而在EUV光源技術上，據康馳目前所能查到的資料來看，國內的常春光所應該也已經接近突破的邊緣了，但具體到了哪一步，康馳也不清楚。
他打算先試著了解一下情況，
如果條件允許，價格合適的話，他可能會直接向他們進行采購，
哪怕技術稍微不達標，采購過來自己再進行改良優化，也能節省大量的時間和精力。
畢竟一台光刻機裡麵，有足足十幾二十萬的零部件，全靠大唐重工自己來做的話，那得搞到猴年馬月去。
而向他們采購，既不浪費他們的科研成果，還能利用上他們的生產力，
也算是共贏了。
所以康馳這次，並不排斥自己成為組裝、調試和改良的角色。
放著華國這麼完整的產業鏈不用，反倒自己去搓每個螺絲，不但浪費國內這麼好資源和基礎，更是閉門造車吃獨食的表現。
而能用本國的產業鏈，來完成一台光刻機的所有零件製造，全球有且隻有一個國家才有可能做到，
那就是華國。
換成老M也不行。
他們也沒辦法隻在本國，就找到光刻機全部零部件的供應商，得全球多國合作協同才行。
而巨大的資源協調成本，更是會大大加重整個研發項目的費用和時間，
這也是華國的很多產品，能做到成本遠低於國外廠商的主要原因之一。
總之，無論常春光所有沒有突破EUV光源的技術，康馳都可以嘗試著借用他的研發製造能力，來迅速獲得一套可行的光源係統。
現在光刻的光有了，
下一步就是把光，通過一個光學係統，收集並投影到塗上了光刻膠的矽片上麵。
這個光學係統，也是整台光刻機中，造價成本占比最大的。
這部分康馳準備對大秦光學的鏡頭生產線，進行升級，然後把它給拆了，直接獲得光刻機鏡片和反射鏡製造，所需要的大部分設備零件。
這麼做的效率無疑會高很多，
而且升級後的生產線，估計連解析項目都沒有，
因為裡麵的大部分技術，康馳在解析光刻機的時候，就已經得到了，他本人擁有非常大的解釋空間。
唯一的缺點就是，需要他在接下的項目中，進行一定的混淆視聽，把這些拆分開的組件，神不知鬼不覺地摻到整個項目裡去。
嗯，
就是欺負嚴輝他們對光刻機沒啥研究，
到時候估計也是康馳讓他們乾什麼，他們就乾什麼，思考空間並不多。
至於光刻機最後的一個關鍵係統，則是承載矽片的雙工件台係統。
它的工作原理很簡單，就是在光刻中不斷的挪動矽片的曝光部位，但其中的技術含量其實非常大。
因為這個工作平台必須快、準、狠。
速度，決定了光刻機的效率，
移動太慢了，光刻機的產量就不行，
這就要求它，在高速移動後，還得迅速且精準地停下，
停留的位置誤差，還得在1nm以內，
但凡偏差大一點，整個晶圓就直接報廢了！