劉本偉不屑一顧。
“王總，我跟你說這句話是實事求是的，浸沒式光刻技術在七八年前就有立項，其中的困難跟你說，你也不清楚。
我隻想說明一點，有那個精力研究浸沒式光刻機，把精力投到紫光激光光源上，效果會好的多。”
看來在這個時代，大家的普遍意識就是，搞浸沒式光刻機是條絕路。
王岸然深吸一口氣，犟鴨子嘴硬的科研人員太多了，自己當初也是他們的一員，跟劉本清生氣，就是跟自己生氣。
這些人要是犯氣牛脾氣來，能把天捅破，唯一的解決之道，就是以德服人，哦，不，是以理服人。
“超高純度折射率液體，往往水裡有一粒微塵，或者一個氣泡，或者多了一些離子，都可能對加工造成巨大的影響。
再加上高純水浮在晶片上，目前的光刻膠中的分子會溶進水中，造成液體介質汙染，劉教授，我說的沒錯吧！”
劉本清在王岸然說第一句話的時候就愣住了，什麼情況，他懂。
待到王岸然將兩大技術難點合盤而出，劉本清說道：“王總，你……？”
王岸然裝著沒看見，背過身，繼續說道：“除了兩大問題，在實際操作中，也會麵臨平台的穩定性，校準係統，曝光時間等問題，需要按每台機器的類型多次調試……”
劉本清想給王岸然豎個大拇指，說一聲牛，這些資料可不怎麼容易找到。
“王總，既然你知道浸沒式光刻機的缺陷，還需要繼續堅持嗎？”
王岸然點點頭，說道：“為什麼不！劉教授，高純水介質我們可以自己研發也可以跟外國合作，厭水光刻膠我們也可以這麼辦，當然，也可以考慮在光刻膠上再噴一道絕水薄膜，沒有試過，怎麼知道不行！”
“我們試過很多種辦法！”
“那就再試，試到解決為止……”
王岸然毫不客氣，作為投資人，他是來發布命令的，而不是跟你討價還價。
浸沒式光刻機肯定是未來的方向，而且波長越長，通過折射後，縮微的效果越明顯。
況且，光刻機的波長並能完全決定芯片的製程，通過特定的曝光方式也可以提高製程。
事實證明，193納米的紫光光源，也可以進行65納米芯片工藝的生產。
以前世對半導體芯片製造的理解，浸沒式光刻，多重曝光方式能夠取得進步的話，完全可以將這台東芝的二手貨，改造成一台可以生產800納米工藝的芯片加工廠，甚至更為先進的320納米工藝也不是不可能。
隻不過芯片生產的效率，肯定會差很多，但至少說明一點，我們掌握了這項技術。
而且通過這一過程，華芯科技還可以積累這部分的專利，在asml前麵設置一套專利壁壘。
至於這套專利有什麼用，王岸然無法評估，按照他的估計，到那個時候，美利堅政府應該也會插手吧！
還有五年的時間，王岸然在紙上寫下磁懸浮雙工作台，浸沒式光刻係統，兩大未來發展方向。
這次他不打算，光靠國內研究機構的力量。
“該到尋找外援的時候了！”