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國產0.5微米光刻機雖然已經研發成功，但是為了避免打草驚蛇，所以，暫時並未準備大張旗鼓的在新聞上進行宣傳。
而且，在技術上也是遮遮掩掩，避免更快是被競爭對手了解技術方向。
反正現階段，0.5微米的光刻機，也不需要對外出售。
現階段，林蒙科技公司盈利模式，一方麵是專利費，另外一方麵則是光刻機。在專利數量方麵，林蒙科技看起來不如新創業電子，一年也就注冊一千多個國際專利，國內專利每年注冊數量也不超過3000個。各種外觀專利和一些應用專利，林蒙科技公司都不屑於注冊，注冊的基本上都是一些技術含量非常高的核心科技。
比如，現在的0.5微米光刻機，就不是模仿現在的光刻機廠商的主流技術，而是應用了90年代還未普及的新技術，沉浸式光刻技術。
用沉浸式光刻技術來做0.5微米的光刻機，也就是500納米，有點殺雞用了牛刀的感覺，但是如果現在不用的話，以後這些專利可能會被彆人注冊。所以，即使殺雞用了牛刀，也先提前占坑！
光刻機在60年代開始問世，一開始是接觸式光刻機、接近式光刻機，到70年代逐漸升級到了投影式光刻機，使得半導體工藝水平，逐漸開始代表人類最精密的加工工藝水平。到1980年代，光刻機再度升級到了步進式光刻機和步進式掃描光刻機。
每一次技術突破，都會使得半導體製造行業出現技術方向的選擇。而選對的方向，自然是贏家通吃，而選錯了方向，未來會因為技術落後，在利潤更高的高端光刻機市場，失去自己的市場份額
在80年代，歐美日等等國家擁有超過百家以上的企業，都是具備能力研發和生產光刻機的，甚至，就連東德曾經也是光刻機市場上的供應商。
而進入90年代之後，大量的光刻機廠商開始掉隊落後。歐洲的asml在90年代初，市場占有率也不是那麼高，甚至技術也不是太先進。真正讓這家公司爆發，則是後來2002年，率先采用了193nm浸入式光刻機。一開始，193nm浸入式光刻機並未真正的領先，一直到2004年，才是利用193nm浸入式光刻機，做到了90納米加工精度。隨後，漸漸的突破65納米、40納米、28納米，讓非浸入式光刻機望塵莫及！
尤其是，28納米時代，更是讓非浸入式光刻機廠商絕望，甚至，已經放棄了繼續研發投入，因為，不可能追趕浸入式光刻機。
也正是因為在關鍵性的技術節點上，選對了方向。所以，asml公司在21世紀初，獨霸光刻機市場。
而佳能和尼康等等競爭對手，後來廢了老大的勁，也很製造28納米級彆精度的光刻機，更何況，asml公司並未停止進步，反而不斷將精度從28納米之後，繼續向20納米、14納米、12納米、10納米、7納米，不斷的提升。
其他的光刻機廠商，後來跟asml的差距逐漸被拉大到十年以上。除非等到asml專利過期，並且，未來工藝水平會長期停滯，否則，被技術差距被拉大到十年以上的程度的業界同行，基本沒有可能搶回市場。
而這次推出的光刻機，雖然工藝水平僅達到0.5微米，給侵入式光刻機技術丟人了，但是，寧可殺雞用牛刀，也不能讓技術路線的主導權，被彆的廠商占了坑。
侵入式光刻機問世後，一直是所有的對手都束手無策，隻好眼睜睜的看著一家公司壟斷市場。可見，這個技術路線在未來幾十年來，代表著正確的方向。未來一直到5納米時代，技術路線上都是在2002年的技術路線上修補。
甚至可預見的未來，納米時代終結之前，這個技術是無敵的。隻有納米時代之後，進入理論上存在的皮米級工藝時代，可能才會換成其他的技術路徑。但是1納米還不知道什麼時候能達到，更彆說，終結了納米之後的皮米時代，有生之年能不能來臨還是未知數。
至少，在林棋和蒙欣所知的未來，人類對於材料的加工工藝精度，還未突破1納米。