這種dna加工納米圖形的方法叫做dna投影納米印刷術，也可以叫做dna模板印刷術。
這種方法可以利用dna為模板來定義基片圖案。
原理是把dna在基片上排列整齊，再在上麵沉積一層金屬膜。
dna分子起納米蠟紙的作用，這樣來便在基片上定義了一些小於10納米的圖案。由於金屬膜以一定角度沉積，dna分子的投影便定義了基片上的圖案。
接下來再使用等離子體刻蝕機對圖案表麵進行刻蝕，便可以在基片上便可得到納米尺寸的溝槽。
這樣就正好繞開了光刻步驟！
光刻機在芯片生產中很重要，但是它的作用其實很簡單。
光刻機在芯片生產中的作用就是通過光源與基片上麵的光刻膠發生反應，使得照射部分的光刻膠變質，易於腐蝕，從而在光刻膠上麵“畫”出電路圖案。
接下來便可以把變質部分的光刻膠腐蝕掉，然後再對晶圓本身進行腐蝕，從而形成半導體器件及其電路。
也就是說光刻機起到的隻是一個定位的作用，真正的電路形成還是得看刻蝕！
而現在這個定位的作用可以由dna模板來完成！
如果按照這種技術思路走下去，那未來的碳基芯片製備就是走化生的方式，完全是從各種溶液裡麵泡出來。
因為除了碳納米管，類似像金屬，氧化物等納米材料也可以用dna工具進行生長，搭建，組裝。
由此可見直接從溶液裡麵把碳納米晶體管泡出來，再組裝到芯片上來的情況也不是不可能。
而且這種技術也符合陳神的需求，隻有這種可以擺脫光刻機加工的新技術，才有可能在當前滿足綠洲係列碳基芯片的生產加工。
最關鍵的是，陳神還真在係統提供的加工資料裡麵找到了對應的dna模板印刷術！
係統的技術資料極其齊全，有碳基芯片生產的所有環節，其中這個製造納米圖形的環節，生產工藝不僅有光刻技術，還有dna模板印刷術。
這說明在係統的推算下，不僅光刻機可以用來製造碳基芯片，dna模板印刷術也一樣可以！
這兩者的作用的確是等同的。
而且跟以往一樣，係統提供的dna模板印刷術比起目前的水準還要高上幾個世代，完美解決了這項技術在碳基芯片生產上的應用問題。
連帶著其他如碳納米管提純、碳納米管組裝排列技術等等步驟的工藝也同樣要領先當前好幾個世代。
不過這些技術都沒有完全超脫當前的理論基礎，更像是現在的技術理論發展了幾十年之後的樣子。
陳神把光刻和dna模板印刷這兩種工藝仔細研究，很快就對比出兩種方法的差彆。
使用光刻機的話，最大的好處就是方便，基本上可以直接使用現在矽基芯片使用的光刻機。
而使用dna模板印刷術，則需要為這種工藝特彆建立起一條供應鏈。
不過這種工藝最大的一個好處就是生產方便，對生產環境要求比光刻機要低至少一半，也無需在暗室中進行。
而且想使用這種技術製造更高精度的納米圖形，難度也比研究升級一台光刻機要容易。
至少對於陳神來說是這樣的……