黑洞光刻機公司。
蒲偉才需要衛明幫忙加工的零件，主要跟光學鏡頭相關。
尤其是塗在光學鏡頭表麵的那層反光膜材料，要求純度達到8個九以上。
但國內相關的材料公司，隻能做到4個九的純度，還差四個量級。
為提高反光效率，衛明隻能利用黑吸收雜質，提純材料，使其純度無限接近100%。
但這樣慢工出細活，一個一個的消除雜質分子，一也提純不了多少。
後麵科學家想到了一個巧妙辦法，那就是把反光膜材料，溶於某種有機溶液中，大部分雜質則不能溶解，於是就把雜質析了出來，再加熱特殊有機溶液，析出純度更高的反光膜材料。
如此反複操作幾次，反光膜材料的純度，能提高11個九以上，要比國外材料還高出三個量級——這便是暴龍euv的能量利用率，為什麼能高出三倍還多的原因。
不過特殊有機溶液經過多次的使用之後，其本身純度會有所下降，進而影響反光膜材料的純度，必須對特殊有機溶液進行提純操作。
這就需要製作一種特殊的分子篩，孔徑極，隻允許有機溶液分子通過，其它分子一個都通過不了，純度甚至達到理論層麵的100%。
故而要想解決掉反光膜純度問題，衛明得製作一批有機溶液分子篩，利用黑鑽出一個個孔。
由於分子篩孔的直徑剛好在1納米左右，以前衛明需要精準操控，一頂多打下100億個孔。
但現在視界的範圍剛好為1納米，隻要關閉引力半徑，再閉著眼的瘋狂打孔即可，短短十分鐘便打下了1萬億個孔。
效率提升了萬倍不止。
僅僅兩個時，他就製造出了足夠使用的分子篩。
高精尖領域做的很多事情其實就是如此。
需要數百種接近100%純度的化學材料。
需要數萬個誤差接近0的零件。
需要表麵無限貼近某個數學公式的鏡片曲率變化規律。
甚至冷卻光刻機所用的水，也必須是沒有任何雜質的100%純水，讓光刻機的冷卻性能，保持線性穩定，不受雜質影響。
以及某些子係統的工作環境，最好是沒有一個空氣分子存在的絕對真空……正好，能夠吞噬一切的黑，可以創造出最接近真空的環境。
光源係統要用到的金屬錫滴，也得保證它的純度是100%，這樣就可以減少雜光的產生。
利用真空容器離心法，衛明幫忙弄到了100公斤的高純度錫……這足夠滿足二十台光刻機的需求。
忙活了一整。
解決掉所有積壓問題後。
時間已是晚上8點多。